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濰坊凱華碳化硅微粉有限公司
碳化硅在冶煉中產生的雜質
點擊次數(shù):   更新時間:20/06/11 09:25:06     來源:m.qdxi.cn關閉分    享:
  碳化硅適用于加工硬質合金,玻璃,陶瓷和非金屬材料外,還用于半導體材料,高溫硅碳棒發(fā)熱體等。以下是碳化硅在冶煉中產生的雜質:
  電工碳化硅冶煉爐子中,雜質的含量更可高達5%,由原料帶入的雜質主要是鋁,鐵,鈣的氧化物,由回爐料帶入的主要是鋁,鐵,鈣一等級合金或者它們的氧化物(氧化鐵,氧化鋁,氧化鈣等等)這些雜質的存在嚴重影響了碳化硅的總體含量。
  實驗證明:爐料內氧化鈣與氧化鋁的總體含量如果達到了3%,就會使一等級碳化硅的結晶產物大約減少40%。由此可見碳化硅質量也與這些雜質有很大的關系。
  去雜質的辦法:
 ?、偈滓獊碇v碳化硅的酸洗。酸洗通常是在加熱的條件下,用硫酸對碳化硅顆粒進行處理,主要目的是為了去掉碳化硅中的金屬鐵,氧化鐵,鎂,鋁等雜質。這么能夠很潔凈方便的去掉碳化硅中的雜質。
 ?、谄浯问翘蓟璧膲A洗。碳化硅的堿洗通常是在加熱的條件下,用NAOH對碳化硅顆粒進行處理,主要目的是除掉外表的游離硅,二氧化硅等等,這么能夠進步碳化硅的含量,加強它的碳化硅含量。
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